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Topographiemessungen technischer Oberflächen mit einer Streulichtanordnung (Topography Measurements of Engineering Surfaces with Optical Scatterometry)

  • K. Hehl , A. Hertzsch , K. Kröger und H. Truckenbrodt
Veröffentlicht/Copyright: 25. September 2009

Abstract

Gedrehte Oberflächenprofile besitzen periodische und zufällige Rauheitskomponenten. Um den Drehprozess und damit den Werkzeugverschleiß zu überwachen, ist prozessnah der mittlere periodische Profilanteil zu messen. Es wird eine optische Messmethode vorgestellt, die eine kontinuierliche Kontrolle der Parameter des periodischen Profilanteils erlaubt. Mit Hilfe einer optimierten Streugeometrie werden allein die Streuanteile der periodischen Oberflächenkomponente gemessen. Durch Vergleich mit einem geeigneten theoretischen Modell kann auf die Profilparameter zurückgeschlossen werden. Die im Falle einer Präzisionsbearbeitung (Ra ≤ 1,5 μm) dominierende periodische Rauheitskomponente kann optisch ohne Scanningverfahren gemessen werden. Die so bestimmten Profile stimmen mit den Tastschnittmessungen sehr gut überein. In der Regel reicht die Kirchhoff–Näherung aus, um die Profilparameter zu berechnen. Der Vergleich mit der rigorosen RCWA–Methode zeigt nur deutliche Abweichungen, wenn Nahfeldanteile die Streuung beeinflussen.

Abstract

Profiles of surfaces processed in lathes can be divided into a periodic and a random roughness component. The periodic component is a function of the tool shape and the feed rate. The random part is caused by machine vibrations. The periodic part is the essential global topographic feature to monitor the process. Using an optimized scattering geometry the model–based evaluation leads to an intensified mapping of the microtopographic surface features. The profile parameters measured with the introduced scattering technique agree well with the values obtained by stylus profiling. In most of the cases a simple Kirchhoff approximation can be used. In comparison to a rigorous treatment with a RCWA analysis the results are equal for both methods. Only in the case where near field contributions influence the scattering the more accurate RCWA method must be taken.

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Published Online: 2009-09-25
Published in Print: 2003-01-01

© 2003 Oldenbourg Wissenschaftsverlag GmbH

Artikel in diesem Heft

  1. Optische Technologien für die Messtechnik – Fokus der OPTO 2002 in Erfurt
  2. Topographiemessungen technischer Oberflächen mit einer Streulichtanordnung (Topography Measurements of Engineering Surfaces with Optical Scatterometry)
  3. Texturanalyse von Bandgut- und Straßenoberflächen (Texture Analysis of Industrial and Road Surfaces)
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  12. Partikelmessung in Parenteralia
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  21. Veranstaltungskalender Januar-Oktober 2003
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