Startseite Halbleiteruntersuchungsverfahren im Rasterelektronenmikroskop - EMK/EBIC und Potentialkontrast / Techniques for Studying Semiconductors in the Scanning Electron Microscope - EMF/EBIC and Voltage Contrast
Artikel
Lizenziert
Nicht lizenziert Erfordert eine Authentifizierung

Halbleiteruntersuchungsverfahren im Rasterelektronenmikroskop - EMK/EBIC und Potentialkontrast / Techniques for Studying Semiconductors in the Scanning Electron Microscope - EMF/EBIC and Voltage Contrast

  • W. Schaler und К. Niederauer
Veröffentlicht/Copyright: 12. April 2025
Veröffentlichen auch Sie bei De Gruyter Brill

Online erschienen: 2025-04-12
Erschienen im Druck: 1985-06-01

© 2025 by Walter de Gruyter Berlin/Boston

Heruntergeladen am 4.11.2025 von https://www.degruyterbrill.com/document/doi/10.1515/pm-1985-220601/pdf
Button zum nach oben scrollen