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Mechanism of etching, polymerization and deposition in R.F. (radio frequency) discharges

  • R. d’Agostino , P. Capezzuto , G. Bruno und F. Cramarossa
Veröffentlicht/Copyright: 1. Januar 2009

Published Online: 2009-01-01
Published in Print: 1985-01-01

© 2013 Walter de Gruyter GmbH, Berlin/Boston

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