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Schichtwachstum von dielektrisch wirksamen Aluminium- und Tantal-Oxidschichten
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Erwin Effenberger
Veröffentlicht/Copyright:
20. April 2021
Published Online: 2021-04-20
Published in Print: 1973-01-01
© 2021 by Walter de Gruyter Berlin/Boston
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Artikel in diesem Heft
- Neuere Vorstellungen über das Wesen der Statistischen Qualitätskontrolle
- The Mechanism of Chip Formation
- „Magnetic Bubbles“ in einachsigen magnetischen Oxiden — Bericht über neue Informationsträger der Datenverarbeitung
- Thermodynamik heterogener Gasgleichgewichte. V. Gasphasenzusammensetzung und chemische Transportreaktionen im System Wolfram-Halogen-Sauerstoff
- Der Diffusionskoeffizient während plastischer Verformung in AlMg5
- Plastoermüdung von Torsionsproben
- Thermodynamie Properties of Liquid Lead-Bismuth Solutions
- Zum Einfluß von Korngröße und Leerstellenausheilung auf den Portevin-Le Chatelier-Effekt
- Internal Oxidation of Silver-Beryllium and Silver-Lithium Alloys
- Calorimetrice and Resistometrie Study of Short-Range Ordering in Gold-Silver Alioys Upon Quenching and Cold-Work
- Schichtwachstum von dielektrisch wirksamen Aluminium- und Tantal-Oxidschichten
- Grain Boundary Sliding in Creep of Alpha Iron
- Ein Verfahren zur Bestimmung thermodynamischer Aktivitäten in α-Mischkristallen
- GESELLSCHAFTSNACHRICHTEN
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