Metallographische Präparation von dotiertem Tantal für licht- und rasterelektronenmikroskopische Mikrostrukturuntersuchungen
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Svea Mayer
Kurzfassung
Dünne kornwachstumsresistente Tantaldrähte werden zur Herstellung von elektrischen Tantalkondensatoren verwendet. Um den Herstellungsprozess zu optimieren, ist es wichtig, die Mikrostruktur von dotiertem Tantal nach unterschiedlichen Herstell- bzw. Wärmebehandlungsschritten zu untersuchen. Dies setzt jedoch voraus, dass eine geeignete artefaktfreie Präparationsmethode für dotiertes Tantal vorliegt, beziehungsweise die bestehenden Methoden verbessert werden. In der vorliegenden Arbeit werden optimierte Präparationsmethoden für licht- und rasterelektronenmikroskopische Untersuchungen vorgestellt. Neben der Beschreibung der Probenpräparation wird auch auf die wichtigsten Ergebnisse der anschließenden mikrostrukturellen Untersuchungen eingegangen.
Abstract
Thin grain growth resistant tantalum wires are used for the production of tantalum capacitors. In order to optimise the fabrication process it is important to examine the microstructure of the doped tantalum after different manufacturing and heat treatment processes. This in turn requires that there is a suitable preparation method for the doped tantalum which does not introduce artefacts or that the existing methods can be improved accordingly. In this article a number of optimised preparation methods for optical and scanning electron microscopic examinations of this material are presented. In addition to the detailed description of the preparation method, main results of the microstructural examinations will be given.
References / Literatur
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© 2006, Carl Hanser Verlag, München
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