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Chemistry of Atomic Layer Deposition
-
Seán Thomas Barry
Sprache:
Englisch
Veröffentlicht/Copyright:
2022
Über dieses Buch
This book will help chemists and non-chemists alike understand the fundamentals of surface chemistry and precursor design, and how these precursors drive the processes of atomic layer deposition, and how the surface-precursor interaction governs atomic layer deposition processes. The underlying principles in atomic layer deposition rely on the chemistry of a precursor with a surface.
- Covers the fundamental chemistry behind ALD.
- Main audience is engineers using ALD and graduate students across all disciplines.
- Written by one of the most prominent Canadian researchers in the field of ALD.
Information zu Autoren / Herausgebern
Seán Thomas Barry, Carleton University, Ottawa, Canada.
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Informationen zur Veröffentlichung
Seiten und Bilder/Illustrationen im Buch
eBook veröffentlicht am:
8. November 2021
eBook ISBN:
9783110712537
Broschur veröffentlicht am:
22. November 2021
Broschur ISBN:
9783110712513
Seiten und Bilder/Illustrationen im Buch
Frontmatter:
8
Inhalt:
105
Abbildungen:
5
Farbige Abbildungen:
70
Tabellen:
20
Schlagwörter für dieses Buch
Oberflächen; Wekstoffwissenschaften; Materialwissenschaften; Beschichtungen
Zielgruppe(n) für dieses Buch
For chemistry graduate students and engineers in thin film deposition.
Sicherheits- und Produktressourcen
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Herstellerinformationen:
Walter de Gruyter GmbH
Genthiner Straße 13
10785 Berlin
productsafety@degruyterbrill.com
