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Solution photochemistry of poly(dialkylsilanes): a new class of photoresists

  • J. Michl , J. W. Downing , T. Karatsu , A. J. McKinley , G. Poggi , G. M. Wallraff , R. Sooriyakumaran und R. D. Miller
Veröffentlicht/Copyright: 1. Januar 2009

Published Online: 2009-01-01
Published in Print: 1988-01-01

© 2013 Walter de Gruyter GmbH, Berlin/Boston

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