Home Technology Zum Aufbau einiger zu T5-Ga homologer und quasihomologer Systeme
Article
Licensed
Unlicensed Requires Authentication

Zum Aufbau einiger zu T5-Ga homologer und quasihomologer Systeme

II. Die Systeme Chrom-Gallium, Mangan-Gallium und Eisen-Gallium sowie einige Bemerkungen zum Aufbau der Systeme Vanadium-Antimon und Vanadium-Arsen
  • Hans-Georg Meißner and Konrad Schubert
Published/Copyright: July 27, 2021
Become an author with De Gruyter Brill
Submit Manuscript Author Information
International Journal of Materials Research
From the journal International Journal of Materials Research Volume 56 Issue 8

Published Online: 2021-07-27
Published in Print: 1965-08-01

© 2021 by Walter de Gruyter Berlin/Boston

Articles in the same Issue

  1. Zusammensetzung der freiwerdenden Gase beim Elektronenstrahlschmelzen von Vanadium, Niob und Tantal
  2. Pulvermetallurgische Formgebung und verschiedene Eigenschaften einiger intermetallischer Uranphasen
  3. Zum Aufbau der uranreichen Uran-Kobalt-Mangan-Legierungen
  4. Die Phasen mit der Borkoordinationszahl 8 im System Kobalt- Vanadium-Bor
  5. Über die Temperaturabhängigkeit der Torsionswechselfestigkeit von Wolframkarbid-Kobalt-Legierungen
  6. Bildung von Verformungstexturen in heterogenen Legierungen
  7. Zum Aufbau einiger zu T5-Ga homologer und quasihomologer Systeme
  8. Ermittlung der Struktur von Niobsuboxid (Nb4O)mit Elektronenbeugung
  9. Zur Darstellung und zum Drucksinterverhalten von Uranmononitrid
  10. Der Einfluß von dispergiertem Borkarbid auf die Verformungstextur und auf die Rekristallisation von gewalztem Kupfer
  11. Emissionsvermögen und elektrischer Widerstand von Vanadium, Vanadium-Stickstoff- und Vanadium-Sauerstof-Mischkristallen
  12. Über eine neue Methode zur röntgenographischen Bestimmung der Korngröße und ihrer statistischen Verteilung in vielkristallinen Feststoffen im Korngrößenbereich von 104 bis 10° A
  13. Automatische Prüfung von Blechen, Bändern, Stäben und Rohren mit Hilfe von Ultraschall
  14. Thermodynamische Berechnungen zur Mischungslücke, zur monotektischen Horizontale und zur Liquiduslinie des Kupfers in Kupfer-Blei-Legierungen
  15. Gesellschaftsnachrichten
  16. Bücherschau
https://doi.org/10.1515/ijmr-1965-560807

Articles in the same Issue

  1. Zusammensetzung der freiwerdenden Gase beim Elektronenstrahlschmelzen von Vanadium, Niob und Tantal
  2. Pulvermetallurgische Formgebung und verschiedene Eigenschaften einiger intermetallischer Uranphasen
  3. Zum Aufbau der uranreichen Uran-Kobalt-Mangan-Legierungen
  4. Die Phasen mit der Borkoordinationszahl 8 im System Kobalt- Vanadium-Bor
  5. Über die Temperaturabhängigkeit der Torsionswechselfestigkeit von Wolframkarbid-Kobalt-Legierungen
  6. Bildung von Verformungstexturen in heterogenen Legierungen
  7. Zum Aufbau einiger zu T5-Ga homologer und quasihomologer Systeme
  8. Ermittlung der Struktur von Niobsuboxid (Nb4O)mit Elektronenbeugung
  9. Zur Darstellung und zum Drucksinterverhalten von Uranmononitrid
  10. Der Einfluß von dispergiertem Borkarbid auf die Verformungstextur und auf die Rekristallisation von gewalztem Kupfer
  11. Emissionsvermögen und elektrischer Widerstand von Vanadium, Vanadium-Stickstoff- und Vanadium-Sauerstof-Mischkristallen
  12. Über eine neue Methode zur röntgenographischen Bestimmung der Korngröße und ihrer statistischen Verteilung in vielkristallinen Feststoffen im Korngrößenbereich von 104 bis 10° A
  13. Automatische Prüfung von Blechen, Bändern, Stäben und Rohren mit Hilfe von Ultraschall
  14. Thermodynamische Berechnungen zur Mischungslücke, zur monotektischen Horizontale und zur Liquiduslinie des Kupfers in Kupfer-Blei-Legierungen
  15. Gesellschaftsnachrichten
  16. Bücherschau
Sign up now to receive a 20% welcome discount
Institutional Access
How does access work?
Have an idea on how to improve our website?
Please write us.
© 2026 De Gruyter Brill
Downloaded on 1.2.2026 from https://www.degruyterbrill.com/document/doi/10.1515/ijmr-1965-560807/html
Scroll to top button