Heft
Lizenziert
Nicht lizenziert
Erfordert eine Authentifizierung
Band 60, Heft 5
Inhalt
-
Öffentlich zugänglichControl and diagnostics of reactive plasma by photochemical and photoionization techniques1. Januar 2009
-
Öffentlich zugänglichThermal plasma processing in the nineties1. Januar 2009
-
Öffentlich zugänglichPlasma deposition and properties of composite metal/polymer and metal/hard carbon films1. Januar 2009
-
Öffentlich zugänglichIndustrial-worthy plasma torches: State-of-the-art1. Januar 2009
-
Öffentlich zugänglichPlasma deposition of amorphous silicon films: an overview on some open questions1. Januar 2009
-
Öffentlich zugänglichMechanism of the ozone formations in a near liquid nitrogen temperature medium pressure glow discharge positive column1. Januar 2009
-
Öffentlich zugänglichParticle heating in a thermal plasma1. Januar 2009
-
Öffentlich zugänglichImpulse corona simulation for flue gas treatment1. Januar 2009
-
Öffentlich zugänglichDiagnostics of thermal plasma1. Januar 2009
-
Öffentlich zugänglichInductively coupled plasmas in analytical atomic spectrometry: excitation mechanisms and analytical feasibilities1. Januar 2009
-
Öffentlich zugänglichPlasma polymerization of unsaturated alcohols for deposition of hydrophilic thin film1. Januar 2009
-
Öffentlich zugänglichPlasma and gaseous etching of compounds of Groups III-V1. Januar 2009
-
Öffentlich zugänglichProcessing of a thermal plasma flow in a tube1. Januar 2009
-
Öffentlich zugänglichHigh Tc superconducting oxide films prepared by sputtering1. Januar 2009
-
Öffentlich zugänglichPlasma reactors for process metallurgy applications1. Januar 2009
-
Öffentlich zugänglichPulse corona induced plasma chemical process: a horizon of new plasma chemical technologies1. Januar 2009
-
Öffentlich zugänglichAmorphous Si and Si-based alloys from glow-discharge plasma1. Januar 2009
-
Öffentlich zugänglichBehaviour of NOx in air-fed ozonizers1. Januar 2009
-
Öffentlich zugänglichExcited states of plasmas for steel surface nitriding and TiN deposition1. Januar 2009
-
Öffentlich zugänglichMechanisms of decomposition of hydrocarbons in electrical discharges1. Januar 2009
-
Öffentlich zugänglichDiagnostics and control of low pressure plasmas for the chemical vapor deposition (CVD) of amorphous semiconductor and insulator films1. Januar 2009
-
Öffentlich zugänglichIonized cluster beam (ICB) deposition and processes1. Januar 2009
-
Öffentlich zugänglichExpanding plasma used for plasma deposition1. Januar 2009
-
Öffentlich zugänglichArc discharge and electrode phenomena1. Januar 2009
-
Öffentlich zugänglichEffect of frequency from 'low frequency' to microwave on the plasma deposition of thin films1. Januar 2009
